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勻膠機(jī)是在速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。

概述
該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠，有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種作方式。

送片盒中的晶片，自動(dòng)送到承片臺(tái)上，用真空吸附，在主軸電機(jī)的帶動(dòng)下旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速100-9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分)，起動(dòng)加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時(shí)間，轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時(shí)間、預(yù)烘時(shí)間等藝參數(shù)均可通過(guò)編程控制。

勻膠機(jī)有個(gè)或多個(gè)滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。膠膜厚度般在500-1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計(jì)行恒量控制。對(duì)涂過(guò)膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠(yuǎn)紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過(guò)程在密封的爐子中行，通過(guò)抽真空排除揮發(fā)出來(lái)的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后，將晶片送入收片盒內(nèi)。

主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和致性的關(guān)鍵，起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開(kāi)并使膠均勻的決定因素。

選購(gòu)巧
從其原理來(lái)說(shuō)，可以看出選購(gòu)勻膠機(jī)需要注意的幾個(gè)細(xì)節(jié)

旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大，對(duì)于要求 涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準(zhǔn)確的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的。產(chǎn)的某些勻膠機(jī)只能提供轉(zhuǎn)速范圍，并不能標(biāo)定實(shí)時(shí)的轉(zhuǎn)速?？诘膭蚰z機(jī)雖然大分能標(biāo)定轉(zhuǎn)速，但是大分轉(zhuǎn)速度沒(méi)有際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)定。

真空吸附系統(tǒng)的構(gòu)
真空泵定要無(wú)油的，壓力標(biāo)定準(zhǔn)確

材質(zhì)的選擇
對(duì)于半導(dǎo)體化行業(yè)的應(yīng)用來(lái)說(shuō)，材質(zhì)的選擇尤為關(guān)鍵，大分勻膠機(jī)采用的是不銹鋼或者普通塑料材質(zhì)，因?yàn)檫@種材質(zhì)的成本很低，不銹鋼的對(duì)于各類化膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對(duì)于較溫度和壓力下易產(chǎn)生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會(huì)導(dǎo)致旋涂時(shí)，時(shí)時(shí)低的顛簸狀態(tài)。自然無(wú)法得到好的旋涂效果。